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| LK Technologies ELS 3000/5000 電子能量損失譜儀 |
單色化電子源與高解析電子能量分析器
0.5meV 能量解析度
低雜訊 高穩定度 軟體配有自動微調功能
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| LK Technologies CMA 2000 電子能量分析儀 |
輕巧設計 不占空間(35mm diameter)
0.7-1.5% 能量解析度
適用於Auger與XPS分析
具備Pulse Counting Mode
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| LK Technologies RVL2000 低能電子繞射儀 |
四層柵網設計 具有安裝於152與203mm法蘭兩種規格
配備便於低能電子繞射分析用之超袖珍電子槍
可應用為低雜訊高效能之Auger電子能譜分析器
對電流量敏感的樣品 可使用特殊設計的低電流MCP型號
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| LK Technologies NGI3000 離子槍 |
Lktech專利充氣技術 不需昂貴differential pumping equipment
可運作於10^-6 Torr低真空
避免了長時間抽真空與灌注氣體至低真空產生的不純氣體問題
極寬離子束 利於均勻的濺鍍樣品表面
特別適用於樣品表面清理與離子散射能譜分析
可調離子能量範圍至3kV
可選配電磁聚焦透鏡功能
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| LK Technologies EG3000 電子槍 |
寬廣能量運作範圍: 50-3000eV
可用於Auger電子繞射與Charge Neutralization等各式表面分析
自動聚焦模式用於微小焦點分析
離焦模式用於大面積分析
可選配大電流特殊型號
可加熱至200度C 特別適於高真空系統
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| LK Technologies EA5000MCA 電子能量分析器 |
可同時分析800個channel
幾秒至幾分鐘內即可收集完整的譜線
較通常的MCA提高100至150倍的效率
解析度可達1meV
完美的邊際場修正
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| LK Technologies 熱脫附質譜儀 |
配備Ion gauge
使用250 L/s TMP與dry backing pump
XYZR 樣品槽
1-200 amu Quadrupole mass spectrometer with shield and motion control
可移動樣品架與加熱器
Load Lock and Sample transfer system with 70 L/s TMP
三種氣體供應
溫度控制與真空加熱系統
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| LK Technologies 超高真空系統 |
超高真空系統 適用於
LEED, RHEED, AES, XPS, HREELS,
SPM, Thermal Desorption Spectroscopy
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